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高濃度化工廠廢氣凈化設(shè)備

高濃度化工廠廢氣凈化設(shè)備

簡要描述:化工廠廢氣凈化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

產(chǎn)品型號:

所屬分類:化工廠廢氣凈化設(shè)備

更新時(shí)間:2024-10-15

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹


化工廠廢氣凈化設(shè)備產(chǎn)品技術(shù)簡介

1、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O- O*(活性氧)O O2→O3(臭氧),*臭氧對有機(jī)物具有*的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

3、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出室外。

4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的.

它具有適應(yīng)性強(qiáng)、運(yùn)行成本低、設(shè)備占在面積小等特點(diǎn),應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。

 

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